Totalreflexions-Röntgenfluoreszenz-Spektrometer

Lieferung und Inbetriebnahme eines Totalreflexions-Röntgenfluoreszenz-Spektrometers (Total reflection X-Ray Fluorescence spectrometry, TXRF) für die Spurenbestimmung von Elementen und die optionale Röntgenfluoreszenzanalyse mit streifendem Einfall (engl. Grazing Incidence X-ray Fluorescence Analysis, GIXRF) für die Tiefenprofilanalyse und Charakterisierung dünner Schichten bis zu einigen hundert Nanometern sowie von Nanopartikeln. Der Messaufbau des Geräts soll eine horizontale Probeneinführung und -messung erlauben, um Methodenentwicklungen für verschiedenen Probenarten sowie den Aufbau neuer Messzellen u.a. für in-situ-Messungen zu ermöglichen. Für eine störungsfreie und sensitive Bestimmung aller Elemente von Na bis U enthält das TXRF/GIXRF-Spektrometer zwei Anregungsquellen (Mo-K- und W-Brems-Anregungsquelle; 17,5 keV und 35 keV) sowie eine optionale Stickstoff- und/oder Heliumspülung. Darüber hinaus soll das Gerät höchstmögliche Sensitivität (Detektionslimit für Ni < 2 pg) bieten und daher mit einem Silikondriftdetektor mit großer aktiver Oberfläche ausgestattet sein (100 mm2). Ein Probenwechsler erlaubt auch die automatische und kontaminationsarme Untersuchung größerer Probenreihen (≥30). Das Gerät soll über entsprechende Soft- und Hardware für das Editieren von Methoden, Kalibrierungen, Messaufträgen und Wiederfindungen, sowie für die Spektrenauswertung und die statistische Auswertung verfügen. Die Software gewährleistet außerdem die automatische Speicherung aller (Meta-)Daten sowie das Nutzermanagement. Entsprechendes Zubehör erlaubt die Ultraspurenanalyse in verschiedenen Probenarten und die kontaminationsfreie Aufbewahrung bzw. Reinigung von Probenträgern. Eine individuelle Nutzerschulung vor Ort durchgeführt durch einen Spezialisten gewährleistet eine sichere und vollumfänglich Nutzung des individuell konfigurierten Geräts, was auch eine nachhaltige Nutzung des Großgeräts erlaubt.