SLE IZHH

Im Rahmen der Quantencomputing-Initiative des DLR werden in einem Reinraum am Innovationszentrum Hamburg Quantencomputer mit der Ionenfallen-Technologie in Zusammenarbeit von Industrie und DLR gebaut. Für die Ausstattung des neuen Reinraums wird ein spezifischer Maschinenpark zur Herstellung, Bearbeitung und Integration von Ionenfallenchips und verwandten Quantentechnologien benötigt. Hierzu werden Anlagen für eine klassische Mikrostrukturierungsprozesskette für den Reinraum beschafft. Die Prozesskette umfasst unter anderem die Strukturierung von Glassubstraten mit bis zu 150 mm Durchmesser mittel laserinduzierter Ätzung. Zu liefern ist insofern eine Anlage zur Strukturierung transparenter Substrate, wie z.B. Glaswafer, mittel selektiver laserinduzierter Ätzung (selective laser etching SLE). Hierbei wird mit einem hoch intensiven Laserstrahl im ersten Schritt das Substrat lokal verändert, so dass es eine erhöhte Ätzrate in einem nasschemischen Folgeschritt aufweist. In diesem Folgeschritt wird dann das vorgeschädigte Material selektiv zum nicht vorgeschädigten Material entfernt, um die gewünschten Strukturen zu erstellen. Die Fokussierung des Laserstrahls in einen Punkt erlaubt das Schreiben von dreidimensionalen Strukturen. Die hier spezifizierte SLE-Anlage umfasst den ersten Teilschritt, das präzise Belichten von Substraten mit bis zu 150 mm Durchmesser mit einem hoch intensiven Laserstrahl. Der Auftragnehmer schuldet die Lieferung, Einbringung der Anlage in die Laborräumlichkeiten des Auftraggebers, Abnahme, Inbetriebnahme und Schulung gemäß Spezifikation. Darüber hinaus sind Service- und Wartungsleistungen zu erbringen.