Zum Inhalt
Menü
Frist abgelaufenEU-weitPlanung

PR726476 - Lithography Process Support for Two Lithography Layers

Fraunhofer Institut Photonische Mikrosysteme IPMS · 01109 Dresden, Sachsen

veröffentlicht 29.05.2024Öffentliche Ausschreibung

Angebotsfristseit 877 Tagen abgelaufen

Dieses Verfahren ist abgeschlossen oder älter. Die Seite bleibt zur Information erreichbar.

Diese Frist ist vorbei. Das läuft gerade

Offene Ausschreibungen derselben Leistung in Sachsen.

Alle Ausschreibungen: Planung in Sachsen (195 offen)

Auf einen Blick

Art des Auftrags
keine Angabe
Geschätzter Wert
keine Angabe
Laufzeit
keine Angabe
Lose
1
Rahmenvereinbarung
keine Angabe
Ort der Leistung
01109 DresdenSachsen
Einreichung
deutsche-evergabe.deArt der Einreichung nicht angegeben
Diese Bekanntmachung ist eine Kurzmeldung. Laufzeit, Lose, Eignungs- und Zuschlagskriterien stehen nur in den Unterlagen auf der Vergabeplattform.

Einordnungvon uns ausgewertet

Wer darf bieten?

Alle interessierten Unternehmen dürfen ein Angebot abgeben.

Wird verhandelt?

Es wird nicht verhandelt. Gewertet wird das Angebot so, wie es eingereicht wurde.

Was jetzt zu tun ist

Unterlagen auf der Vergabeplattform abrufen und das Angebot vollständig bis zur Angebotsfrist abgeben.

Die Gewichtung von Preis und Leistung steht nicht in der Bekanntmachung, nur in den Vergabeunterlagen.

Unterlagen schon heruntergeladen? Vergabeunterlagen prüfen (Team): Fristen, Gewichtung, Mengen, Zertifikate und Fehler im Preisblatt.

Fristen und TermineStand 07.11.2026

  1. Veröffentlichung
    vor 29 Monaten
  2. Angebotsfrist 14:00 Uhr
    über deutsche-evergabe.de
    vor 29 Monaten
  3. Heute

Beschreibung

We are seeking proposals for lithography process support for two lithography layers. The project involves utilizing 193nm (ArF) or 248nm (KrF) lithography technology for the first layer to expose structures of a minimum of 150nm. For the first lithography layer two possible mask options are required. The provider will be responsible for photoresist, exposure, and development processes, including metrology. For the second lithography layer, i-Line lithography technology can be used since dimensions for that layer are at least 450 nm. The provider will again handle the mentioned steps (see figure 1). The entire project must adhere to the protocol zones for wafer processing (Front End of Line) as per SEMI Standard.

PR726476 - Lithography Process Support for Two Lithography Layers

AuftraggeberZur Seite der Vergabestelle

Anschrift
keine Angabe
Kontakt
keine Angabe

Bei uns erfasst

38Bekanntmachungen
0Zuschlagsmeldungen

Noch keine Zuschlagsmeldung dieses Auftraggebers im Bestand.

Alle Ausschreibungen und Zuschläge dieser Vergabestelle

Mehr von Fraunhofer Institut Photonische Mikrosysteme IPMS

Alle 3 offenen Ausschreibungen von Fraunhofer Institut Photonische Mikrosysteme IPMS, dazu Zuschläge und Auftragnehmer

Marktumfeldvon uns ausgewertet

Für diese Meldung fehlen Hauptgegenstand oder Bundesland, deshalb gibt es kein Marktumfeld.

Preise und WettbewerbPremium

Ähnliche offene Ausschreibungen

Quelle: Bekanntmachungsservice des Bundes (oeffentlichevergabe.de), Lizenz CC0. Stand der Daten: 04.11.2026. Maßgeblich ist allein die Originalbekanntmachung. Kennung 22144524.