kombinierte PVD-PACVD-Beschichtungsanlage

Der Lehrstuhl für Konstruktionslehre und CAD der Universität Bayreuth beabsichtigt die Beschaffung einer kombinierten PVD-PACVD-Beschichtungsanlage.

Beschafft werden soll eine für Forschungszwecke geeignete Beschichtungsanlage, welcher als Prozesstechnik die physikalische Gasphasenabscheidung (PVD, physical vapour deposition) sowie die plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung (PACVD, plasma assisted chemical vapour deposition) zugrunde liegt.

Mit diesen Verfahren ist es möglich, eine Vielzahl von Materialien durch physikalische und/oder plasmaaktivierte chemische Prozesse auf Substraten als dünne Schicht (bis zu wenigen Mikrometer Schichtdicke) abzuscheiden. Als Substrate dienen Probekörper und technische Bauteile des Geräte-, Maschinen-, Apparate- und Fahrzeugbaus bis zu mittleren Abmessungen. Für die geplanten Forschungsvorhaben ist als PVD-Prozess das Kathodenzerstäuben (Sputtern) erforderlich.

Die zu beschaffende Anlage ist vom Hersteller für die genannten Prozesstechniken und Anwendungsgebiete zu konzipieren und muss dem neuesten Stand der Technik entsprechen. Für die geplanten Forschungsvorhaben sind insbesondere tribologisch wirksame Schichten (Reibungs- und Verschleißreduzierung), biokompatible Schichten sowie Schichten, die die Integration von Zusatzfunktionen in Oberflächen erlauben, etwa Zustandsüberwachung, Messen oder Energy Harvesting, von Interesse. Anwendung finden sie zum Beispiel in der Antriebstechnik, Energietechnik und Medizintechnik.

kombinierte PVD-PACVD-Beschichtungsanlage