Ionenquelle zur Reinigung/Vorbehandlung dielektrischer Substrate

Die PVD-Beschichtungsanlage arbeitet im Batch-Betrieb, wobei nach dem Einbau der zu beschichtenden Teile und der Evakuierung ein Vorbehandlungsprozess erfolgen muss, damit die PVD-Schicht optimal an die Oberfläche der zu beschichtenden Teile anbinden kann. Das meist genutzte Prinzip ist der Beschuss der Oberfläche mit hoch energetischen Inertgasionen, die durch eine Sputterwirkung die obersten Atomlagen abtragen. Zur Bereitstellung diese Ionen gibt es zwei Ansätze. Erstens werden beispielsweise durch eine Hohlkathode Elektronen erzeugt, die in der Vakuumkammer Argon ionisieren, welches dann mit einer an-gelegen elektrischen Spannung auf das Substrat beschleunigt wird. Dazu sind einige 100 V nötig und das Substrat muss elektrisch leitfähig sein. Alternativ können die Inertgasionen in externen Ionenquellen bereits ionisiert und beschleunigt werden, wobei dann auch elektrisch nichtleitende Substrate beschossen und für eine Beschichtung vorbehandelt werden können.

Ionenquelle zur Reinigung/Vorbehandlung dielektrischer Substrate