Ionenimplantationsanlage - PR468166-2790-W

1 Stück Ionenimplantationsanlage

Für die farbzentrenbasierte Quantentechnologie am IISB wird eine Implantationsanlage benötigt und soll daher im Rahmen einer strategischen Investition in Form einer Mehrstrahlanlage beschafft werden. Im Fokus steht eine Ionensäule (FIB), die mindestens Helium und Stickstoff als wählbare Spezies besitzt. Ein niedriger Helium-Ionenstrom (kleiner 10 µA) muss es ermöglichen ein 4H-SiC Substrate mit niedriger Ionendosis (sub-10 He-Ionen pro Spot) zu bestrahlen und so reproduzierbar einzelne VSi-Farbzentren zu erzeugen. Die Ionensäule muss einen geeigneten ExB-Filter und eine Neutralstromeliminierung besitzen. Zusätzlich soll die Anlage ein Time-of-Flight Sekundärionen-Massenspektrometer (TOF-SIMS) besitzen. Durch die Integration einer dritten Säule in Form eines Rasterelektronenmikroskops (REM) ist sowohl eine hochauflösende 2D und 3D Strukturanalyse als auch hochpräzise Positionierung der Probe unter den beiden Ionenstrahlen möglich. Die zu bearbeitenden Substrate haben Durchmesser von wenigen Millimetern bis hin zu 150 mm und sollen sowohl drehbar als auch kippbar in der Vakuumkammer montiert werden können. Alle Säulen sollen über voneinander unabhängige, elektro-pneumatisch angetriebene Blenden verfügen. Neben den zwei FIBs und dem REM integriert das System außerdem: - Gas-Injektion mit mindestens einem (1) unabhängigen Gas - Flood Gun zur Ladungskompensation - Sekundärelektronendetektoren - Zweite Ionensäule mit einer Flüssigmetallquelle (LMAIS) (optional) - Substratheizer zum ausheizen auf min. 600°C für 30min (optional) - Nano-Manipulator zur TEM-Lamellenpräparation (optional) Alle Bedienfunktionen müssen über eine Software angesteuert werden können, die auch eine Rezeptsteuerung umfasst.

Optionen: O3.1 Option: Zusätzliches Gas-Injektions-System mit mindestens einem Gas mit Kapillare, autom. Düsenpositionierung und Temperatursteuerung. O3.2 Option: Ionensäule mit einer Flüssigmetallquelle (LMAIS) ausgestattet die mindestens Silizium- und Germaniumionen erzeugen, fokussieren und gegen eine Probe beschleunigen kann. O3.3 Option: Ein Substrathalter, der die Möglichkeit bietet Substrate auf 600°C zu erhitzen und die Temperatur eine halbe Stunde zu halten O3.6 Option Nano-Manipulator zum Liftout und/oder Rotation einer TEM Lamelle während der TEM-Lamellenpräparation O7.1 Option Eine Preisinformation für eine jährliche Wartung ist dem Angebot beizulegen. Der Abschluss eines Wartungsvertrages bleibt unabhängig von der Zuschlagserteilung optional