Dual Beam Focused Ion Beam System (FIB) und Transmissionselektronenmikroskop (TEM)
Institut für Oberflächen- und Schichttechnik GmbH · Kaiserslautern, Rheinland-Pfalz
Aktenzeichen 25-1696-1707veröffentlicht 15.07.2026LieferleistungenOffenes Verfahren
- Lose
- 2
- Verfahren
- Offenes Verfahren
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Offene Ausschreibungen derselben Leistung in Rheinland-Pfalz.
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Alle Ausschreibungen: Labor- und Messgeräte in Rheinland-Pfalz (9 offen)
Auf einen Blick
- Art des Auftrags
- Lieferleistungen
- Geschätzter Wert
- ?keine Angabe
- Laufzeit
- ?keine Angabe
- Lose
- 2Angebot auf bis zu 2, Zuschlag höchstens 2 je Bieter
- Verfahren
- Offenes VerfahrenVgV, EU-weit
- Rahmenvereinbarung
- nein
- Ort der Leistung
- Kaiserslautern67663, Rheinland-Pfalz
- Einreichung
- elektronisch: Erforderlichdtvp.de
Schnellprüfung für Bieter
- Unterlagen frei zugänglichja
- Elektronische Einreichung verpflichtendja
- Nebenangebote zugelassennein
- Mehrere Hauptangebote zugelassenja
- Laut Auftraggeber für KMU geeignetnein
- Sicherheiten verlangtnein
- Teilnahme vorbehalten (z. B. Werkstätten)nein
- E-Rechnung verpflichtendnein
- ?Vertraulichkeitserklärung verlangtkeine Angabe
- Elektronische Auktionnein
- Aus EU-Mitteln finanziertja
- ?Wiederkehrender Auftragkeine Angabe
Einordnungvon uns ausgewertet
Alle interessierten Unternehmen dürfen ein Angebot abgeben.
Es wird nicht verhandelt. Gewertet wird das Angebot so, wie es eingereicht wurde.
Unterlagen auf der Vergabeplattform abrufen und das Angebot vollständig bis zur Angebotsfrist abgeben.
Wertung laut Bekanntmachung: Preis 50 %, Leistung und Qualität 50 %.
- Preis (Angebote auf Einzellose und Kombinationsangebote)50 %
- Technik (Angebote auf Einzellose bzw. Kombinationsangebote)50 %
Unterlagen schon heruntergeladen? Vergabeunterlagen prüfen (Team): Fristen, Gewichtung, Mengen, Zertifikate und Fehler im Preisblatt.
Das kostet etwa 8,3 von 100 Punkten der Gesamtwertung.
| 10 % teurer | −4,5 Punkte |
| 25 % teurer | −10 Punkte |
| 50 % teurer | −16,7 Punkte |
| 100 % teurer | −25 Punkte |
Annahme: Preispunkte = günstigstes Angebot geteilt durch das eigene. Die verbindliche Formel steht in den Vergabeunterlagen.
Fristen und TermineStand 07.11.2026
- Veröffentlichungvor 4 Monaten
- Fragen bis 23:59 Uhrvor 3 Monatenan Institut für Oberflächen- und Schichttechnik GmbH
- Angebotsfrist 23:59 Uhrvor 3 Monatennur elektronisch über dtvp.de
- Bindefrist endetvor 5 Tagen77 Tage ab Angebotsfrist, von uns berechnet
- Heute
Beschreibung
Los1: DualBeam Focused Ion Beam Systems (FIB) Gegenstand ist die Lieferung, Installation, Inbetriebnahme sowie betriebsbereite Übergabe eines DualBeam Focused Ion Beam Systems (FIB) einschließlich Einweisung/Schulung und vollständiger Systemdokumentation. Die technischen Mindestanforderungen und Bewertungsaspekte ergeben sich aus den Dokumenten "Los1.25-1696.05.techn.Anforderungsprofil" und "Los1.25-1696.06.Wertungsmatrix". Los2: Transmissionselektronenmikroskop (TEM) Gegenstand ist die Lieferung, Installation, Inbetriebnahme sowie betriebsbereite Übergabe eines Transmissionselektronenmikroskops (TEM) einschließlich Einweisung/Schulung und vollständiger Systemdokumentation. Die technischen Mindestanforderungen und Bewertungsaspekte ergeben sich aus den Dokumenten "Los2.25-1707.05.techn.Anforderungsprofil" und "Los2.25-1707.06.Wertungsmatrix".
Gegenstand nach CPV
Lose2 Lose · Angebot auf bis zu 2 · Zuschlag höchstens 2 je Bieter
Alle 2 Lose haben dieselben Bedingungen, Fristen und Kriterien. Sie stehen deshalb einmal unter Bedingungen.
| Los | Gegenstand | Laufzeit | Geschätzter Wert |
|---|---|---|---|
| 1 | Dual Beam Focused Ion Beam System (FIB) Ziel dieses Beschaffungsvorhabens ist die Lieferung, Installation, Inbetriebnahme sowie betriebsbereite Übergabe eines Dual-Beam-FIB/REM-Systems (Focused Ion Beam / Rasterelektronenmikroskop) einschließlich analytischer Detektorsysteme, Schulung und vollständiger Systemdokumentation. Das System dient primär der präzisen Probenpräparation (u.a. TEM-Lamellen, APT-Spitzen, Querschnitte und Defektfreilegungen) und sekundär der hochauflösenden bildgebenden, chemischen und strukturellen Charakterisierung (SEM, EDX, STEM, EBSD) im selben System. Das Gerät wird als zentrale Präparations- und Analyseplattform für wissenschaftliche Forschungsprojekte eingesetzt. Typische Anwendungen umfassen u. a. Batterie- und Elektrodenmaterialien, Wasserstoffspeichermaterialien, katalytische Schichten, Metalle/Legierungen, keramische Werkstoffe, Halbleiter, Beschichtungen und Multilayer-Systeme. Ein besonderer Schwerpunkt liegt auf: - reproduzierbarer, möglichst automatisierter TEM-Lamellen- und APT-Präparation (Lift-Out, Thinning, Polishing) - 3D-Analytik (Serienschliff/Tomographie) mit quantitativer Auswertung - hochaufgelöster Abbildung in verschiedenen SEM-Modi incl. Ioneninduzierter Sekundärionen sowie korrelierter Bildgebung während der Bearbeitung - chemischer Analytik mittels EDX und kristallographischer Analytik mittels EBSD Darüber hinaus ist eine strukturierte Erfassung und Exportfähigkeit von Messdaten und Metadaten in gängige, nicht-proprietäre Formate erforderlich, um Anforderungen an Nachvollziehbarkeit, Langzeitverfügbarkeit und Forschungsdatenmanagement (FAIR-Prinzipien) zu erfüllen. Das System muss die präzise Probenpräparation und -strukturierung mittels Ionenstrahl sowie die begleitende und nachfolgende Abbildung und Analytik mittels SEM und anderen Detektorsystemen ermöglichen. Ziel ist die reproduzierbare Präparation von Proben für TEM und APT sowie die Durchführung von 2D/3D-Analysen (Bildgebung (SE, STEM), EDX, EBSD) einschließlich vollständiger Dokumentation der Bearbeitungs- und Messparameter. Folgende Kernfunktionen sind zwingend bereitzustellen: 1. Materialabtrag/Strukturierung (manuell und automatisiert) mit definierbaren Pattern- und Rezeptfunktionen. 2. TEM-Lamellenpräparation inkl. In-situ Lift-Out, Thinning und abschließender Feinpolitur. 3. APT-Spitzenpräparation (Needle Milling) inkl. reproduzierbarer Geometrie. 4. Korrelierte Echtzeit-Bildgebung im SEM während der FIB-Bearbeitung (Navigation/Endpunktkontrolle). 5. Chemische Analytik mittels EDX sowie kristallographische Analytik mittels EBSD (Punkt, Linie, Mapping). 6. 3D-Workflows (Serienschliff/Tomographie) mit dokumentierter Rekonstruktion bzw. Export der Datensätze. 7. Workflow und Datenmanagement: eindeutige Zuordnung von Bearbeitungs-/Messdaten, Parametern und Metadaten; Export in nicht proprietäre Formate. | – | – |
| 2 | Transmissionselektronenmikroskop (TEM) Gegenstand des Beschaffungsvorhabens ist die Lieferung, Installation, Inbetriebnahme sowie betriebsbereite Übergabe eines aberrationskorrigierten 200 kV Transmissionselektronenmikroskops (S/TEM) einschließlich analytischer Detektorsysteme, Schulung und vollständiger Systemdokumentation. Das System dient als zentrale Analyseplattform für die hochauflösende strukturelle, chemische und elektronische Charakterisierung von Materialien auf atomarer und nanometergenauer Skala. Es wird sowohl für industrielle Auftragsanalytik als auch für wissenschaftliche Forschungsprojekte eingesetzt. Im Institut werden Materialien mit stark variierenden Eigenschaften untersucht, insbesondere Metalle, Legierungen, keramische Werkstoffe, Halbleiter, Beschichtungen, funktionale Schichtsysteme sowie nanostrukturierte Materialien. Die Proben unterscheiden sich hinsichtlich Geometrie, Stabilität gegenüber Elektronenstrahlbelastung sowie analytischer Fragestellungen. Ein besonderer Schwerpunkt liegt auf: - hochauflösender Abbildung bis in den atomaren Bereich - chemischer Analytik mittels EDX und EELS - Untersuchung von Grenzflächen und Defekten - Untersuchung magnetischer und funktionaler Materialien - reproduzierbaren Messungen über Probenserien hinweg Darüber hinaus ist eine strukturierte Erfassung und Exportfähigkeit von Messdaten und Metadaten in gängige, nicht-proprietäre Formate erforderlich, um Anforderungen an Nachvollziehbarkeit, Langzeitverfügbarkeit und Forschungsdatenmanagement (FAIR-Prinzipien) zu erfüllen. Das System muss die hochauflösende strukturelle, chemische und elektronische Analyse von festen, elektronenstrahlstabilen Proben im Transmissionselektronenmikroskopie- und Raster-Transmissionselektronenmikroskopie-Modus ermöglichen. Hierzu muss es eine präzise Elektronenoptik, stabile Betriebsbedingungen sowie integrierte analytische Detektionssysteme bereitstellen. Ziel ist die Untersuchung von Materialien bis in den atomaren Maßstab sowie die quantitative und qualitative Analyse von Struktur, Zusammensetzung und elektronischen Eigenschaften. Folgende Kernfunktionen sind zwingend bereitzustellen: 1. Hochauflösende Abbildung (TEM und STEM): - Abbildung von Kristallstrukturen, Defekten, Grenzflächen und Nanostrukturen mit atomarer bzw. sub-nanometergenauer Auflösung. - Betrieb sowohl im konventionellen TEM- als auch im STEM-Modus. - Flexible Wahl geeigneter Abbildungsmodi (z. B. Bright Field, Dark Field, HAADF, ABF, Oberflächenbildgebung mit topografieabhängigem Kontrast). 2. Chemische und spektroskopische Analytik: - Elementanalytik mittels energiedispersiver Röntgenspektroskopie (EDX). - Analyse elektronischer und chemischer Zustände mittels Elektronenenergieverlustspektroskopie (EELS). - Durchführung von Punktanalysen, Linienprofilen sowie zweidimensionalem Mapping. 3. Untersuchung von Grenzflächen und Defekten: - Analyse von Phasengrenzen, Ausscheidungen, Korngrenzen und strukturellen Inhomogenitäten. - Untersuchung lokaler chemischer Variationen auf nanoskaliger Ebene. 4. Untersuchung funktionaler und magnetischer Materialien: - Möglichkeit zur magnetfeldfreien oder feldarmen Abbildung (z. B. Lorentz-Modus oder funktional gleichwertig), soweit erforderlich. 5. Automatisierter und reproduzierbarer Betrieb: - Reproduzierbare Einstellung von Messparametern und Speicherung von Messabläufen. - Unterstützung automatisierter Messreihen und Mapping-Experimente. 6. Workflow und Datenmanagement: - Eindeutige Zuordnung von Messdaten, Parametern und Metadaten. - Möglichkeit zur späteren Reproduktion von Messbedingungen. 7. Integration aller Detektoren und Betriebsmodi in eine konsistente Bedienumgebung. | – | – |
Bedingungengilt für alle Lose
Zuschlag2 von 2 angegeben
- Preis
- Preis (Angebote auf Einzellose und Kombinationsangebote)Für das Zuschlagskriterium Preis erhält das Angebot mit dem niedrigsten (gewerteten) Preis 5 Punkte. Null Punkte erhält ein fiktives Angebot mit dem Doppelten des niedrigsten (gewerteten) Angebotspreises. Alle Angebote mit einem Angebotspreis über dem Doppelten des niedrigsten (gewerteten) Angebotspreises erhalten ebenfalls null Punkte. Die Punktebewertung für die dazwischenliegenden Angebotspreise erfolgt über eine lineare Interpunktion mit 4 Stellen hinter dem Komma.
- Qualität
- Technik (Angebote auf Einzellose bzw. Kombinationsangebote)Für das Zuschlagskriterium Technik werden ausschließlich die nachgewiesenen technischen Leistungsparameter von im Dokument 06.Wertungsmatrix Abschnitt 2 (technische Übererfüllung (wertungsrelevant)) des jeweiligen Loses genannten Anforderungen bewertet. Das Zuschlagskriterium Technik wird ermittelt, indem die Wertungspunkte der einzelnen Anforderungen jeweils mit dem festgelegten Gewichtungsfaktor gemäß Dokument "06. Wertungsmatrix", Abschnitt 2 ("technische Übererfüllung (wertungsrelevant)") des jeweiligen Loses, multipliziert und anschließend aufsummiert werden. Die technische Bewertung eines Kombinationsangebotes setzt sich aus der technischen Bewertung der beiden Einzellose sowie der Bewertung des zusätzlichen wissenschaftlichen und funktionalen Mehrwerts der gemeinsamen Präparations- und Analytikplattform zusammen. Unterkriterien für diesen Mehrwert sind: K1 durchgängiger Probenworkflow zwischen FIB und TEM K2 Qualität des Probentransfers K3 korrelative Wiederauffindbarkeit identischer Probenbereiche K4 gemeinsames Daten- und Projektmanagement K5 gemeinsames Service- und Betriebskonzept Ergänzend wird auf das Dokument "Gesamt.06.Wertungsmatrix.pdf."
Eignung3 von 3 angegeben
- Referenzen zu bestimmten Lieferungen
Eignungskriterium ist die Vorlage von 3 Referenzen zu vergleichbaren Installationen. Bei Angeboten für ein Los sind Referenzen für vergleichbare Systeme des jeweiligen Loses vorzulegen. Bei Angeboten für beide Lose können Referenzen für beide Systemtypen oder vergleichbare integrierte Systeme einger … ganz lesenkürzer
Eignungskriterium ist die Vorlage von 3 Referenzen zu vergleichbaren Installationen. Bei Angeboten für ein Los sind Referenzen für vergleichbare Systeme des jeweiligen Loses vorzulegen. Bei Angeboten für beide Lose können Referenzen für beide Systemtypen oder vergleichbare integrierte Systeme eingereicht werden. Als vergleichbare Referenzen gelten erfolgreich durchgeführte Liefer-, Installations- und Inbetriebnahmeprojekte von Systemen, die in Art, Funktion und Komplexität dem jeweils angebotenen Los entsprechen (Los 1: DualBeam FIB bzw. vergleichbare FIB/SEM-Systeme; Los 2: TEM bzw. vergleichbare Elektronenmikroskope). Die Referenzen müssen den vollständigen Leistungsumfang (Lieferung, Installation, Inbetriebnahme, betriebsbereite Übergabe sowie Einweisung) umfassen und in einem wissenschaftlichen oder industriellen High-Tech-Umfeld erbracht worden sein. Sie dürfen zum Zeitpunkt des Ablaufs der Angebotsfrist nicht älter als drei Jahre sein.- Nachreichen von Unterlagen
- Die Nachforderung von Erklärungen, Unterlagen und Nachweisen ist nicht ausgeschlossen.
- Ausschlussgründe
Rein nationale Ausschlussgründe, Bildung krimineller Vereinigungen, Bildung terroristischer Vereinigungen, Geldwäsche oder Terrorismusfinanzierung, Betrug oder Subventionsbetrug, Bestechlichkeit, Vorteilsgewährung und Bestechung, Menschenhandel, Zwangsprostitution, Zwangsarbeit oder Ausbeutung, Vers … ganz lesenkürzer
Rein nationale Ausschlussgründe, Bildung krimineller Vereinigungen, Bildung terroristischer Vereinigungen, Geldwäsche oder Terrorismusfinanzierung, Betrug oder Subventionsbetrug, Bestechlichkeit, Vorteilsgewährung und Bestechung, Menschenhandel, Zwangsprostitution, Zwangsarbeit oder Ausbeutung, Verstöße gegen Verpflichtungen zur Zahlung von Steuern oder Abgaben, Verstöße gegen Verpflichtungen zur Zahlung von Sozialversicherungsbeiträgen, Verstöße gegen umweltrechtliche Verpflichtungen, Verstöße gegen sozialrechtliche Verpflichtungen, Verstöße gegen arbeitsrechtliche Verpflichtungen, Zahlungsunfähigkeit, Insolvenz, Einstellung der beruflichen Tätigkeit, Mit Insolvenz vergleichbares Verfahren, Schwere Verfehlung, Wettbewerbsbeschränkende Vereinbarungen, Interessenkonflikt, Wettbewerbsverzerrung wegen Vorbefassung, Mangelhafte Erfüllung eines früheren öffentlichen Auftrags, Täuschung oder unzulässige Beeinflussung des Vergabeverfahrens
Laufzeit und Umfang1 von 5 angegeben
- Vertragsbeginn
- ?keine Angabe
- Vertragsende
- ?keine Angabe
- Verlängerung
- ?keine Angabe
- Optionen
- ?keine Angabe
- Rahmenvereinbarung
- nein
Angebot und Einreichung8 von 9 angegeben
- Elektronische Einreichung
- Erforderlich
- Einreichung über
- dtvp.de
- Sprache
- Deutsch
- Nebenangebote
- Nicht zulässig
- Mehrere Hauptangebote
- Zulässig
- Elektronischer Katalog
- Nicht zulässig
- Bindefrist
- 77 Tage
- Angebotsöffnung
- ?keine Angabe
- Sicherheiten
- nicht verlangt
Ausführung5 von 6 angegeben
- Vertraulichkeit
- ?keine Angabe
- E-Rechnung
- Zulässig
- Elektronische Bestellung
- wird nicht genutzt
- Elektronische Zahlung
- wird nicht genutzt
- Vorbehaltene Ausführung
- Nein
- EU-Mittel
- Auftragsvergabeprojekt ganz oder teilweise aus EU-Mitteln finanziert
Rechtsschutz3 von 3 angegeben
- Nachprüfungsstelle
- Vergabekammer Rheinland-Pfalz, c/o Ministerium für Wirtschaft, Tourismus, Energie und Klima, Stiftsstraße 9, 55116 Mainz
- Fristen für Nachprüfungsanträge
Die Vergabekammer leitet ein Nachprüfungsverfahren nur auf Antrag ein. Antragsbefugt ist jedes Unternehmen, das ein Interesse an dem öffentlichen Auftrag oder der Konzession hat und eine Verletzung in seinen Rechten nach § 97 Abs. 6 GWB durch Nichtbeachtung von Vergabevorschriften geltend macht. Dab … ganz lesenkürzer
Die Vergabekammer leitet ein Nachprüfungsverfahren nur auf Antrag ein. Antragsbefugt ist jedes Unternehmen, das ein Interesse an dem öffentlichen Auftrag oder der Konzession hat und eine Verletzung in seinen Rechten nach § 97 Abs. 6 GWB durch Nichtbeachtung von Vergabevorschriften geltend macht. Dabei ist darzulegen, dass dem Unternehmen durch die behauptete Verletzung der Vergabevorschriften ein Schaden entstanden ist oder zu entstehen droht. Der Antrag ist unzulässig, soweit - der Antragsteller den geltend gemachten Verstoß gegen Vergabevorschriften vor Einreichen des Nachprüfungsantrags erkannt und gegenüber dem Auftraggeber nicht innerhalb einer Frist von zehn Kalendertagen gerügt hat; der Ablauf der Frist nach § 134 Abs. 2 GWB bleibt unberührt, - Verstöße gegen Vergabevorschriften, die aufgrund der Bekanntmachung erkennbar sind, nicht spätestens bis zum Ablauf der in der Bekanntmachung benannten Frist zur Bewerbung oder zur Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden, - Verstöße gegen Vergabevorschriften, die erst in den Vergabeunterlagen erkennbar sind, nicht spätestens bis zum Ablauf der Frist zur Bewerbung oder zur Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden, - mehr als 15 Kalendertage nach Eingang der Mitteilung des Auftraggebers, einer Rüge nicht abhelfen zu wollen, vergangen sind. Satz 1 gilt nicht bei einem Antrag auf Feststellung der Unwirksamkeit des Vertrags nach § 135 Abs. 1 Nr. 2 GWB. § 134 Abs. 1 Satz 2 GWB bleibt unberührt.- Beschaffungsübereinkommen (GPA)
- fällt nicht darunter
Zusätzliche Informationen1 von 1 angegeben
- Hinweis
- #Bekanntmachungs-ID: CXP4DNMMUBY#
Keine Angabe passt zu diesem Suchbegriff.
Bezeichnungen aus den amtlichen eForms-Codelisten (EU und eForms-DE). Maßgeblich sind die Vergabeunterlagen.
AuftraggeberZur Seite der Vergabestelle
- Anschrift
- Trippstadter Straße 120, 67663 Kaiserslautern
- Kontakt
- kein Funktionspostfach angegeben, siehe Originalbekanntmachung
Bei uns erfasst
- Spektrometer XPS 202609.07.2026 · 1 Angebot
- LIBS-Mikroskop 202630.06.2026 · 1 Angebot
Marktumfeldvon uns ausgewertet
Vergabemeldungen der letzten 24 Monate mit Hauptgegenstand CPV 380 (Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser)) in Rheinland-Pfalz. Abgeleitet aus veröffentlichten Bekanntmachungen, keine amtliche Statistik. Zuschlagswerte unter 1.000 € zählen wir als Platzhalter nicht mit.
Mehr Marktdaten, Vergabestellen und offene Ausschreibungen: Labor- und Messgeräte in Rheinland-Pfalz (9 offen)
Preise und WettbewerbPremium
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Quelle: Bekanntmachungsservice des Bundes (oeffentlichevergabe.de), Lizenz CC0. Stand der Daten: 03.11.2026. Maßgeblich ist allein die Originalbekanntmachung. Kennung c6abad07-e17d-4e42-b1fc-35d01bf3fcf6.