2PP 3D Drucker - PR589683-3340-W

Für den Ausbau optischer Technologiekompetenzen soll am Fraunhofer-Instituts für Elektronische Nanosysteme ENAS ein direktschreibendes und flexibles Lithographiesystem beschafft werden. Für On-Chip/On-Wafer Optiken (Koppler/Wellenleiter/Refraktive Oberflächen/...) soll ein hochauflösendes 2PP 3D Drucksystem die bestehenden Lithographiestrecke ergänzen und Möglichkeiten für die Herstellung komplexer dreidimensionaler Freiformen mit Hinterschnitt eröffnen.

Beschreibung 1. Dieses Leistungsverzeichnis beschreibt die Spezifikationen für ein Laser-Lithographiesystem am FRAUNHOFER ENAS. Das System wird in einem Reinraumbereich ISO-Klasse 7 genutzt. 2. Die detaillierte Konfiguration ist durch den Verkäufer zu bestimmen, entsprechend der neuesten State-of-the-Art Technologie, um alle Spezifikationen zu erfüllen. 3. Ist eine Funktion/Eigenschaft als Option/optional beinhaltet, muss diese als separate Position im Angebot aufgeführt werden einschließlich der entsprechenden Kosten. 4. Werden für den reibungslosen Betrieb des Systems zusätzliche Geräte und/oder Software benötigt, welche nicht im Leistungsverzeichnis adressiert wurden, müssen diese ebenfalls als separate Position im Angebot mit Kosten aufgeführt werden. 5. Der Hersteller kann zusätzliche Optionen im Angebot einfügen, welche nicht direkt im LVZ adressiert wurden, wenn sie die Performance oder Flexibilität des Systems hinsichtlich der Forderungen zu Funktion oder Spezifikation verbessern. Option 12 - Maschinenschnittstelle: Bidirektionale Maschinenschnittstelle SECS/GEM für MES.

Option 27 - Integrierter Strommesser: unterhalb 50 kVA - EASTRON SDM 630 Modbus größer 50 kVA - SDM630MCT V2

Option 29 - Substrathalter Wafer bis 100 mm Durchmesser: Substrathalter für die Aufnahme eines 4 Zoll Wafers bzw. Waferverbundes bis 4 mm Dicke, Grobe Justage an Primary Flat

Option 30 - Substrathalter Wafer bis 150 mm Durchmesser 30.1 - Substrathalter für die Aufnahme eines 6 Zoll Wafers bzw. Waferverbunds bis 1 mm Dicke, Grobe Justage an Primary Flat 30.2 - Bis 4 mm Substratdicke Option 31 - Substrathalter Wafer bis 200mm Durchmesser: Substrathalter für die Aufnahme eines 8 Zoll Wafers bzw. Waferverbunds bis 4 mm Dicke, Grobe Justage an Notch

Option 58 - Verlängerung Gewährleistung: auf 24 Monate mit Angabe der zusätzlichen Kosten